مشاركة تقنية SEM للمجهر الإلكتروني الماسح
مبدأ تحليل SEM باستخدام المجهر الإلكتروني الماسح: استخدام التكنولوجيا الإلكترونية للكشف عن الإلكترونات الثانوية والإلكترونات المتناثرة والإلكترونات الممتصة والأشعة السينية وما إلى ذلك المتولدة أثناء التفاعل بين حزم الإلكترونات عالية الطاقة والعينات وتضخيمها إلى صور
تتضمن طرق تمثيل المخططات الطيفية الصور المتناثرة، وصور الإلكترون الثانوية، وصور تيار الامتصاص، والتوزيعات الخطية والسطحية للعناصر، وما إلى ذلك
المعلومات المقدمة: مورفولوجيا الكسر، والبنية المجهرية السطحية، والبنية المجهرية داخل الفيلم، وتحليل عناصر المنطقة الدقيقة، وتحليل العناصر الكمية، وما إلى ذلك
نطاق تطبيق المجهر الإلكتروني الماسح (SEM):
1. تحليل مورفولوجيا سطح المادة ومراقبة مورفولوجيا المنطقة الدقيقة
2. تحليل أشكال المواد المختلفة وأحجامها وأسطحها ومقاطعها العرضية وتوزيع حجم الجسيمات
3. مراقبة مورفولوجية السطح، وتحليل الخشونة والسمك لعينات الأغشية الرقيقة المختلفة
مشروع اختبار SEM
1. تحليل مورفولوجيا سطح المادة ومراقبة مورفولوجيا المنطقة الدقيقة
2. تحليل أشكال المواد المختلفة وأحجامها وأسطحها ومقاطعها العرضية وتوزيع حجم الجسيمات
3. مراقبة مورفولوجية السطح، وتحليل الخشونة والسمك لعينات الأغشية الرقيقة المختلفة
يعد تحضير عينات المجهر الإلكتروني الماسح أبسط من تحضير عينات المجهر الإلكتروني النافذ، ولا يتطلب التضمين أو التقسيم.
متطلبات العينة:
يجب أن تكون العينة صلبة؛ تلبية متطلبات التركيبة غير السامة وغير المشعة وغير الملوثة وغير المغناطيسية واللامائية والمستقرة.
مبدأ التحضير:
يجب تنظيف العينات الملوثة سطحيًا بشكل صحيح ثم تجفيفها دون الإضرار بالبنية السطحية للعينة؛
الكسور أو المقاطع العرضية المكسورة حديثًا لا تتطلب عمومًا علاجًا لتجنب إتلاف الكسر أو السطح
الحالة الهيكلية
يجب تنظيف وتجفيف سطح أو كسر العينة المراد تآكلها؛
إزالة المغناطيسية المسبقة للعينات المغناطيسية؛
يجب أن يكون حجم العينة مناسبًا لحجم حامل العينة الخاص بالأداة.
الطرق الشائعة:
عينة بالجملة
مادة موصلة ممتلئة: لا حاجة لإعداد العينة، استخدم مادة لاصقة موصلة لربط العينة بحامل العينة للمراقبة المباشرة.
المواد غير الموصلة (أو سيئة التوصيل): أولاً، استخدم طريقة الطلاء لمعالجة العينة لتجنب تراكم الشحنات والتأثير على جودة الصورة.
